4-дюймовая фотомаска

Zhixing имеет богатый опыт в производстве 4-дюймовых фотомасок, у нас есть собственная фабрика по обработке и производству, цена выгодная, и мы поддерживаем настройку различных размеров, обеспечивая при этом высокую точность, чтобы удовлетворить все требования клиентов, добро пожаловать на консультацию. , с нетерпением ждем сотрудничества с вами.

4-дюймовая фотомаска — очень важное устройство в оптической промышленности, которое в основном используется в процессе производства оптических устройств. Область применения маски очень широка и охватывает многие области, такие как электроника, полупроводники, оптика и химия. Технология 4-дюймовой фотомаски позволяет производить микронную точность изготовления и высококачественные шаблоны, что обеспечивает важную поддержку для развития оптической промышленности.

В области электроники версия маски в основном используется для производства различных микроэлектронных компонентов в электронных продуктах, таких как транзисторы, интегральные схемы, светодиодные чипы и так далее. Благодаря технологии маскирующих пластин может быть достигнута точность изготовления на микронном уровне, что делает процесс производства электронных компонентов более совершенным и эффективным, а также значительно улучшает производственные мощности и качество продукции электронной промышленности.

В полупроводниковой промышленности 4-дюймовая фотомаска также является незаменимым устройством. Полупроводниковый чип является одним из основных компонентов современной науки и техники, а маска является незаменимым производственным инструментом в процессе производства полупроводникового чипа. 4-дюймовая фотомаска может осуществлять «локальную» обработку и выращивание полупроводниковых чипов, делая производство полупроводниковых чипов более эффективным и совершенным, а также улучшая производственные мощности и качество продукции полупроводниковой промышленности.

В оптической промышленности версия маски в основном используется для производства высокоточных оптических устройств, таких как солнечные панели, оптические защитные пленки и так далее. Технология маскирующей пластины позволяет обеспечить точный контроль формы, размера, толщины и других параметров оптического устройства, производить высококачественные оптические устройства и способствовать росту оптической промышленности.

Технология маскирующих пластин также широко используется в области химии. В химическом производстве пластина-шаблон может обеспечить точность изготовления на микронном уровне, производство высококачественных композиционных материалов, химических реагентов, фармацевтических продуктов и других продуктов внесло важный вклад в развитие химической промышленности.

Таким образом, диапазон применения маскирующей пластины в оптической промышленности очень широк, и она может достигать микронной точности изготовления, что способствует высококачественному развитию оптической промышленности. Благодаря постоянному прогрессу науки и техники технология масок также постоянно обновляется и совершенствуется, обеспечивая более широкое пространство для будущего развития оптической промышленности.

Особенность:

В таблице показаны только некоторые продукты, если вам нужны другие продукты,

вы можете проконсультироваться со службой поддержки клиентов

Физическая демонстрация продуктов литографии на стеклянных фотомасках

процесс изготовления:

(1) Нарисуйте файл макета сетки маски (формат GDS), который может распознаваться устройством генерации.

2) Используйте машину для безмасочной литографии, чтобы прочитать файл макета, выполнить бесконтактное экспонирование (длина волны экспозиции 405 нм) на пустой сетке с помощью клея и осветить необходимую область рисунка на сетке, чтобы сделать фоторезист в этой области. (обычно положительный клей) подвергается фотохимической реакции

3) После проявления и фиксации фоторезист в экспонированной зоне растворяется и отпадает, обнажая нижележащий слой хрома.

4) Используйте раствор для травления хрома для влажного травления, протравите открытый слой хрома, чтобы сформировать светопроводящую область, а слой хрома, защищенный фоторезистом, не будет травиться, образуя непрозрачную область. Таким образом, на сетке формируются плоские узорчатые структуры с разным светопропусканием.

5) При необходимости удалите слой фоторезиста с сетки влажным или сухим способом и очистите сетку.

Сертификат